Mikrosistemske i nanosistemske tehnologije u CMT

  • Dizajn i izrada fotolitografskih maski
  • Fotolitografija
  • Oksidacija (formiranje maskirajućeg sloja za difuziju)
  • Difuzija (formiranje piezootpornika)
  • Deponovanje provodnog sloja (Al metalizacija)
  • Nagrizanje Si i formiranje membrane (zapreminsko mikromašinstvo)
  • Sečenje Si pločice na čipove
  • Montaža čipova na kućište
  • Karakterizacija senzora

 

Metode karakterizacije u CMT

  • Mikroskopija atomskih sila (Atomic force microscopy)
  • Infracrvena spektrofotometrija (FTIR spektrometar, FTIR mikroskop)
  • Spektrofotometrija u UV i vidlјivom spektru
  • Merenja u klima komorama
  • Profilometrija (do deblјine 1 nm)
  • Kalibracija transmitera apsolutnog i relativnog pritiska, diferencije pritiska, nivoa i temperature (sertifikovana laboratorija za Ex-proof naprave)
  • Merenja na simulatoru apsolutno crnog tela
  • Karakterizacija fotodetektora (osetlјivost, detektivnost, šum)
  • Merenje brzine odziva
  • Burn-in testovi poluprovodničkih komponenti
  • Kapacitivno-naponska merenja
  • Serijsko testiranje čipova (automatski prober)
  • Fotoakustička karakterizacija